Мягкая литография

      Обычная фотолитография прекрасно зарекомендовала себя в случае, когда необходимо разместить как можно большее ко личество элементов на маленькой площади полупроводнико-вого кристалла. Однако она совершенно не подходит для случаев, когда те же элементы нужно разместить по большой площади, на иных материалах или не на плоских поверхностях.

      Технология размещения наноструктур на любых поверхностях, названа “мягкой литогра-фией”. Она не требовательна к качеству и форме подложки, а потому применять её можно для

неровных и гибких поверхностей и даже объёмных фигур. В качестве примера, демонстрирую-щего возможности новой технологии, исследователи из Иллинойского университета (США) показывают полусферу, покрытую матрицей фоточувствительных транзисторов и способную сыграть роль основного элемента для широкоугольного цифрового фотоаппарата.

      Делают ее так: сперва на выбранную поверхность наносят тонкие плёнки алюминия, кремния и нитрида кремния. Потом поверхность нагревают и методами зондовой микроскопии

“рисуют” на ней определенную наноструктуру с характерными размерами в десятки нм. Затем штампуют ею мягкую полимерную матрицу, которую потом подвергают облучению для зат-вердения.

      Минимальные размеры элементов, создаваемых этим способом, составляют около 10 нм, что позволяет, в принципе, осуществлять очень плотную запись, но производительность и на-дежность оставляют желать лучшего. Тем не менее, мягкую литографию ждёт большое будущее.